10月27-29日，第十屆中國半導體設備年會暨半導體設備與核心部件展示會在無錫舉行。聚焦客戶需求，推動行業發展，微導納米攜全新iTomic系列原子層沉積鍍膜系統產品及解決方案重磅亮相。

展臺現場：展示前沿技術和設備

交流供應鏈協作和上下游需求

    在高峰論壇上，微導納米副董事長兼首席技術官黎微明博士聚焦產業鏈熱點，以《原子級工程：原子層沉積技術的展望》為題作了精彩演講，與國內集成電路領域專家、學者和企業家代表暢談了薄膜沉積設備面臨的機遇與挑戰、前沿ALD技術與市場趨勢等話題，共同探討如何以創新促進產業鏈上下游聯動發展。

       會上，中國電子專用設備工業協會常務副秘書長金存忠公布了“第十五屆中國半導體創新產品和技術”評選結果，微導納米“鳳凰300（iTomic HiK系列）原子層沉積設備”成功入選半導體創新產品。該項評選由中國半導體行業協會、中國電子材料行業協會、中國電子專用設備工業協會等共同舉辦，旨在獎勵半導體領域的技術開發與創新、科技成果推廣與應用。這也意味著微導納米的創新研發實力與產品應用價值，贏得了業內的高度認可。

半導體設備是半導體制造的基石，是支撐中國制造轉型中國“智”造的關鍵力量。微導納米作為國內ALD設備領軍企業，將利用自身在薄膜沉積領域的多年積累，持續攻關自主研發過程中遇到的技術難題，與產業伙伴合力推進創新發展，鼎力相助中國半導體裝備業共同成長。